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西安奥法光电技术有限公司于2003年成立。研制和生产高性能法拉第磁光玻璃、梯度变折射率玻璃及其它光电材料；生产法拉第旋光器、光隔离器、光纤无源器件；定制加工各种精密光学和机械零件；高精度玻璃管、毛细管、光纤准直器。研制的二硅化钼(MoSi2)高温电热元件及耐高温结构件获国家发明专利并拥有从材料配方、制造工艺、生产装备和控制系统的知识产权和专有技术。
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自聚焦透镜
(English) Gradient Index Lens – Grin Lens is a micro gradient index lens.
It is designed for use in focusing and collimation, e.g. WDM, optical couplers, collimators, optical isolators and demanding telecommunication and date communication applications
光隔离器
法拉第光隔离器广泛应用于各种激光系统中，如多级激光放大器、光参量振荡器、环形激光器、掺饵光纤放大器、种子注入型激光器、光开关、光调制器等。总之，一切需要避免有害反射光的场合如导致光学损伤、系统不稳定等，都需要使用法拉第旋光器或光隔离器加以解决。光隔离器是消除高速光纤传输和光放大器的回程光束不良影响的关键器件。光隔离器也可保护您的设备免于接地环路，尖峰和脉涌的危险。我们在光隔离器上利用了法拉第旋转器，其优势在于旋转器的非互异性，即偏振面的旋转方向不因偏振光的传输方向的改变而改变。
(English) Type MR4 Faraday Rotator Glass
(English) Type MR4 Paramagnetism Faraday Rotator Glass parameters
Verdet constant=-0.38 min/Oe*cm at 632.8 nm, t=20 ℃
Verdet constant=-0.118 min/Oe*cm at 1064 nm, t=20 ℃
(English) Type MR3-2 Faraday Rotator Glass
(English) Paramagnetism Faraday Rotator Glass
Type MR3-2 faraday rotator glass parameters at 20 ℃ temperature
Verdet Constant: -0.33min/Oe*cm or -96rad/T*m at 632.8 nm
Verdet Constant: -0.11 min/Oe*cm or -31.4 rad/T*m at 1064 nm
Transmission window: 400nm-1600nm
Type MR3-2 glass is characterized by a high Verdet constant and a lower nonlinear refractive index n2 to avoid self-focusing in high power laser system.法拉第磁旋光元件
牌号MR3-2 玻璃旋光系数维尔德常数: -0.329min/Oe*cm or -96 rad/T*m at 632.8 nm
维尔德常数: -0.108 min/Oe*cm or -31.4 rad/T*m at 1064 nm光学参数:1. 端面光洁度: 10/5 （划痕/道子MIL-PRF-13830B)
2. 通光面平面度: < λ/8- λ/10波长632.8nm
3. 两通光面之间平行度: < 30 秒.
4. 通光面与轴向垂直度: < 10分
5. 偏振消光比：> 40 dB
6. 有效通光孔径: > 90%
7. 自由倒边: < 0.30mm x 45度
8. 柱面细磨: < 30um
9. 双面镀抗反射膜: R < 0.30%,1064nm
10. 激光损伤阈值: > 5J/cm²,10ns,1064nm法拉第磁旋光玻璃
法拉第磁旋光玻璃 是一种新颖的光电高科技领域重要的透明光学功能材料，它能够使一束通过平行于磁场方向偏振光的偏振面发生旋转，是具有较强法拉第磁光效应Faraday Effect的玻璃功能材料。因其具有“非互易性”，即可将同一波长的正向入射光及反向入射光的偏振面,都向同一个方向旋转同一个角度，而与光束传播的方向无关。
基于以上特性，该材料被广泛用于制作法拉第旋光器。如果将一个入射光束的偏振面旋转45度的旋光器置于两个彼此呈45度正交放置的偏振器之间，则构成光隔离器，即它只允许正向传输的光束通过该系统，而将反向传输的光束阻断。
法拉第磁旋光原理及应用
把磁光介质如水、铅玻璃等放到磁场中，使光线平行于磁场方向通过介质时，入射的平面偏振光的振动方向就会发生旋转，转移角度的大小与磁光介质的性质、光程和磁场强度等因素有关。磁光材料是激光、光电子学和正在发展的光子学中所用多种磁光效应器件使用的磁性材料。对磁光材料的特性要求主要是：
(1) 高磁光效应，如高的法拉第磁光旋转角和克尔磁光旋转角
(2) 低磁光损耗
(3) 宽磁光效应频带
(4) 高稳定性
